Maria Lourdes Herrezuelo Sanchez

Nuestros informes le proporcionarán toda la información sobre los cargos nombrados por sociedades cuyo nombre coincida con Maria Lourdes Herrezuelo Sanchez, con el detalle de los cargos actuales y de los cargos ocupados históricamente, ordenados cronológicamente. Nuestro exclusivo cronograma de cargos le permitirá analizar los datos de manera visual, facilitándole la labor de comprensión y síntesis de todas las sociedades que han nombrado cargos coincidentes con Maria Lourdes Herrezuelo Sanchez. Además, accederá a toda la información comercial, mercantil, judicial, financiera y de riesgo de las empresas en las que ocupe algún cargo y podrá conocer las vinculaciones entre ellas.

Bajo el nombre Maria Lourdes Herrezuelo Sanchez se han publicado, entre otros, el cargo de apoderado en una empresa situada en Madrid. Está o ha estado relacionado, entre otras, con una empresa con actividad CNAE Servicios técnicos de arquitectura, actividad SIC Oficinas técnicas de ingeniería y arquitectura y objeto social Las Actividades Propias de la Ingenieria, la Prestacion de Servicios Para Obras Civiles, de Mecanica, de Tuberia, de Electricidad, de Instrumentaciom. de Calor Fugado y de Pintura Industrial, Seguridad e Higiene en el Trabajo. El último anuncio en BORME de esta empresa ha sido publicado el 06/03/2020, en el Registro Mercantil de Madrid, Boletín 46, Referencia 105488. Este cambio ha sido Ceses/Dimisiones, inscrito el 29/02/2020, Tomo 20636, Folio 181, Sección 8, Hoja 365397, Inscripción 10. Por otro lado, su última modificación no mercantil ha sido Nueva información de crédito, el 30/11/2025. El tiempo de permanencia en un cargo es de 18 años, 7 meses y 10 dias. Además, se ha publicado un cargo en otra empresa bajo el nombre Maria Lourdes Herrezuelo Sanchez.

Además, conozca si Maria Lourdes Herrezuelo Sanchez tiene propiedades o derechos sobre bienes inmuebles por medio del Servicio de Índices de la Propiedad y reciba las Notas Simples de la Propiedad de los bienes de los que es titular.